Titán alapú aktív ernyős plazmanitridálás

Titanium based active screen plasma nitriding

Abstract

In our research we compared a TiN layer formed by PVD with the layer formed by titanium based
active screen plasma nitriding. The base material was a quenched and tempered 42CrMo4. A compound
layer, therefore, a hard, abrasion resistant layer was not formed during the nitriding process. The
chemical composition and binding energies were examined by EDS and XPS spectrometry. On the
surface a non-stochiometrical TiOxNy layer was formed.

Kivonat

Kutatásunk során 42CrMo4 anyagminőségű nemesített acél, titán aktív ernyős plazmanitridálását
végeztünk el, mellyel célunk, hogy összehasonlítsuk a PVD-bevonatoló eljárással képződött, valamint a
titán aktív ernyős plazmanitridálással létrehozott TiN réteget. A kísérleteink során nem keletkezett
kemény, kopásálló réteg a próbatestek felületén, tehát nem jött létre vegyületi zóna. A minták kémiai
összetételét EDS-, illetve XPS-analízissel vizsgáltuk. A felületen keletkezett titán, oxigén és nitrogén is,
de nem titán-nitridet, hanem egy nem sztöchiometrikus titán-oxinitridet képeztek.