Titán alapú aktív ernyős plazmanitridálás

Titanium based active screen plasma nitriding

Authors

  • Annamária SZABÓ
  • Attila SZLANCSIK

Keywords:

plazmanitridálás, titán aktív ernyő, PVD, titán-nitrid, titán-oxinitrid

Abstract

In our research we compared a TiN layer formed by PVD with the layer formed by titanium based
active screen plasma nitriding. The base material was a quenched and tempered 42CrMo4. A compound
layer, therefore, a hard, abrasion resistant layer was not formed during the nitriding process. The
chemical composition and binding energies were examined by EDS and XPS spectrometry. On the
surface a non-stochiometrical TiOxNy layer was formed.

Kivonat

Kutatásunk során 42CrMo4 anyagminőségű nemesített acél, titán aktív ernyős plazmanitridálását
végeztünk el, mellyel célunk, hogy összehasonlítsuk a PVD-bevonatoló eljárással képződött, valamint a
titán aktív ernyős plazmanitridálással létrehozott TiN réteget. A kísérleteink során nem keletkezett
kemény, kopásálló réteg a próbatestek felületén, tehát nem jött létre vegyületi zóna. A minták kémiai
összetételét EDS-, illetve XPS-analízissel vizsgáltuk. A felületen keletkezett titán, oxigén és nitrogén is,
de nem titán-nitridet, hanem egy nem sztöchiometrikus titán-oxinitridet képeztek.

Downloads

Published

2020-04-16

How to Cite

[1]
SZABÓ, A. and SZLANCSIK, A. 2020. Titán alapú aktív ernyős plazmanitridálás: Titanium based active screen plasma nitriding. Nemzetközi Gépészeti Konferencia – OGÉT. 28, (Apr. 2020), 85–88.

Issue

Section

A. szekció - Anyagtudomány és technológia